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氧化铌靶材介绍什么是靶中毒现象

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氧化铌靶材介绍什么是靶中毒现象

发布日期:2018-03-06 作者: 点击:

  【氧化铌靶材】介绍什么是靶中毒现象

  (1)正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,不能直接进入阴极靶面,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。、

  (2)阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。

氧化铌靶材.jpg

  靶中毒的物理解释

  (1)一般情况下,金属化合物的二次电子发射系数比金属的高,靶中毒后,靶材表面都是金属化合物,在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,提高了空间的导通能力


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